应韩国媒体的报道，鉴于与竞争对手台积电市场份额的差距亟待收敛，三星已启动对极端紫外线光刻胶膜技术的研发工作。此举旨在加速技术创新步伐，以增强其在全球半导体制造领域的竞争力。通过这一战略举措，三星正全力推进前沿科技研发，力求在竞争激烈的市场环境中实现突破性进展。
极紫外光微影曝光工艺中，采用先进防护层作为关键组件，此设计旨在于光掩模表面敷设一层精密涂层，以确保在绘制晶圆所需的电路图时，不仅免受空气中悬浮尘埃与挥发性气体的侵扰，还能显著降低光掩模受损的风险。目前，全球这一领域的核心供应商包括荷兰ASML、日本三井化学以及韩国S&S Tech等业界翘楚。
在2021年的Foundry Forum年度盛会上，三星曾宣布其雄心勃勃的目标：自主研发下一代EUV护膜技术。这一决定预示着该公司对于提升半导体制造工艺的承诺与决心。进入2023年之初，三星不仅实现了这一目标，更迈出了关键一步——成功开发出一款透光率高达88%的EUV护膜。
根据目前的时间线推断，若一切按三星的计划顺利推进，那么这款新型EUV护膜很可能已经进入了量产阶段。此举无疑将为供应链带来多元化与稳定性上的显著提升，为全球科技产业注入一剂强心针。然而，对于追求极致性能的三星而言，这仅仅是其技术进步路上的一个里程碑而非终点。事实上，88%的透光率虽已相当不凡，但三星并未止步于此——他们深知，品质的最佳化之路永无止境。
为了进一步提升EUV护膜的性能，三星决定继续投入研发，寻求更高标准、更高质量的产品。在追求极致的过程中，每一微小的进步都意味着对科技边界的一次探索与超越，这也正是推动全球技术进步的强大驱动力之一。
根据BusinessKorea的报道，三星半导体研究所近来的招聘信息揭示了其在先进科技领域的积极布局，特别是聚焦于研发具有卓越性能的EUV护膜技术。当前，全球范围内致力于开发透光率超过90%的EUV护膜的主要竞争者包括ASML和S&S Tech，其中后者在2021年成功实现了突破，首次推出了透光率达到90%的EUV护膜产品。
三星此举表明其旨在提升自身技术实力，在这一关键领域与行业领导者并肩前行。通过研发透光率高达92%的EUV护膜，三星不仅意在巩固其在半导体制造领域的地位，同时也可能为推动产业创新和性能优化设定新的标准。这一系列研发活动凸显了其对技术创新不懈追求的精神以及在全球科技竞争中的战略部署。
三星已启动对下一代高数值孔径极紫外光防护层的研究项目，计划采用创新材料，并将与外部研究机构联手，评估碳纳米管和石墨烯等材料在EUV护膜中的应用潜力。同时，三星还积极部署自身研发的纳米级石墨薄膜的大规模生产设施设计工作，以确保技术的自给自足及产业链的全面优化。
自2019年起，台积电启动了自主研发的极紫外光防反射涂层项目，并在2021年宣布其生产效能相较于前一年实现了惊人的二十倍增长。业内专家指出，三星力推EUV防护膜的研发工作旨在缩小与业界领导者——台积电之间的技术差距。
