于二零二三年二月二十三日，中微半导体设备股份有限公司，简称“中微公司”，揭晓其二零二一年度之经营概况与财务报表预估数据。
在报告期内，中微公司的业务收入显著攀升至人民币31.08亿元，相较上一时期的业绩增长了令人瞩目的36.72个百分点。归属于母公司所有者的净利润亦迎来了丰收的季节，攀升至10.11亿元，较去年同期大增105.49%。更为值得一提的是，在剔除非经常性损益影响后，归属于母公司所有者的净利润实现了惊人的增长，达到了人民币3.22亿元，较上一年同期增幅高达1281.90%，展现出公司核心业务的强大活力与稳健发展态势。
在与您进行交流的过程中，请相信我将全心致力于提供更高层次、更加典雅的语言回应。为了确保精确性和一致性，我的响应将遵循您的指示，并将专注于扩展、改写原有的内容，而不涉及对过程的说明或讨论结果的影响。请随时发送需要改进的文本或请求，例如：“请使用更高级的表述方式重新呈现这段话：中微公司刚刚在公告中发布了一张截图。”
在这个环节中，我仅会输出修改后的语言，而不会包含任何关于此操作本身的描述、解释或其潜在效果的信息。我的目标是直接为您提供优化过的内容，以满足您对风格和表达的追求。
如果您需要特定文本的改写，请提供原文，随后我将遵循您的指导方针进行处理。请放心，无论内容涉及何种主题，包括但不限于新闻公告、专业报告或日常对话等，我都将致力于呈现更加优雅且高级的语言表述。
由于实施了股权激励计划，公司在2021年度新增的股份支付费用达2.15亿人民币，这一数字相较于前一年的1.24亿有了显著增长，增幅约为0.91亿人民币。这一支出计入了公司经常性损益中。
在2020年度，我司审慎地投入了三亿人民币，以股权形式支持青岛聚源芯星股权投资合伙企业，从而间接获得了中芯国际的部分股份。然而，因市场环境的波动以及公司对中芯国际部分股票的战略性减持操作，在2021年，该投资活动为我司带来了大约三百九十万人民币的收益，相较于2020年的二亿六千二百万元，减少了约二十二亿三千万元的回报。此情况体现了在市场中的风险与机遇共存，以及公司对于资产组合优化和风险管理策略的重要性。
在评估师的精心审核之下，对初步结果进行审视，发现了一笔来自公司所投资且未上市公司的股权资产，在2021年的公允价值变动带来收益总计约为3.70亿元人民币，这一数额相较于前一年实现了等额增长。通过综合考量上述两项关键因素的影响，该企业于2021年较之2020年实现了税前利润的显著提升，总额达到约1.47亿元。
作为一家植根于中国并面向全球市场的企业，中微公司专精于微观加工领域的高端装备研发与制造，其深厚的技术底蕴源自多年深耕半导体装备行业的积淀。致力于为半导体芯片前端制造、先进封装、LED生成、MEMS制造及其他高精度工艺提供前沿解决方案，中微公司推出了一系列尖端产品，如CCP刻蚀设备、ICP刻蚀设备、深硅刻蚀设备、MOCVD设备以及VOC净化设备等，旨在推动微观制程技术的革新与发展。
中微公司精心研发并制造的先进设备，已经在全球范围内的多个高新技术企业的生产线中成功实现了商业化应用与大规模部署。
根据年度评估报告显示，于二零二一年间，中微公司成功实现了显著的新订单激增，这一壮举成为了其净利润实现强劲增长的关键驱动力。
于2021年六月，中微公司宣布其电感耦合等离子体刻蚀设备——Primo nanova®的第百台反应腔已顺利交付至客户手中。当时声明指出，目前该产品已成功融入国内外众多客户的晶圆生产流程，在逻辑芯片、动态随机存取存储器以及三维闪存制造领域均实现了规模化量产。
在2021年11月的某个时刻，中微公司自豪地宣布，他们的电容耦合高能等离子体刻蚀系统，成功地向国内一家领先的半导体制造商交付了第1500个反应台。这一成就源自该客户的信任与持续的支持，他们选择了Primo D-RIE®刻蚀设备作为其生产流程的关键组成部分。此外，中微公司的刻蚀设备家族还包括了两套先进的电感耦合低能等离子体刻蚀系统以及一款专门用于硅通孔刻蚀的精密工具，充分展现了其在半导体制造领域的广泛技术覆盖与卓越性能。
在2021年十二月，中微公司喜获重大里程碑，宣布其卓越的Prismo UniMax®MOCVD设备的订单数量已突破百腔大关。这款于前一年六月面世的Prismo UniMax®MOCVD设备，专为大规模生产氮化镓基MiniLED外延片而设计，展现了其在高端科技领域的领导地位和市场认可度。
