伴随着各式各样的镜头、显示装置、生物识别硬件、第五代无线通信技术与各类智能终端设备，乃至近期引人瞩目的元宇宙关键应用场景中的增强现实与虚拟现实等消费类终端的不断进化，对于光学镀膜设备的技术精巧度以及成本效益的需求亦随之提升。
在不久前圆满落幕的第23届中国国际光电博览会上，作为行业内的佼佼者，青岛四方思锐智能技术有限公司——以其Beneq品牌为核心代表的领先企业，在展会现场的亮点之一，便是聚焦于展现ALD在光学镀膜领域的卓越应用。凭借其膜层厚度分布的高度均匀性、保形性能及优异的性价比，这一技术受到了业内专家与决策者的高度关注和广泛赞誉。
图1：思锐智能带着其卓越的Beneq品牌，在全球瞩目的第23届中国国际光电博览会上展现其创新科技。
图二：新颖的ALD光学镀膜技术的应用激起了行业内的广泛热议与瞩目。
原子层沉积技术在光学镀膜应用中展现出独特的优越性，其尤为擅长于为三维结构的部件产品施加具有高保形性、高致密性和高均一性的光学薄膜。这种处理方法专精于在具备深宽比特性的槽道、微孔以及复杂曲面上进行精确涂层，显著填补了等离子体增强化学气相沉积技术在某些领域存在的局限性，并因此在现代光学镀膜领域中日益受到瞩目和推崇。
图3揭示了ALD技术卓越的适应性与灵活性，它能够精准地应用于各类复杂几何形态的光学元件之中，无论是具有独特曲线的透镜，还是精细结构的光栅。这一技术不仅打破了传统加工工艺对形状和尺寸的限制，实现了对任意形状光学器件的批量处理，更在一定程度上推动了光学设计领域的发展与创新。ALD技术的引入，不仅极大地提升了生产效率与产品质量，还为追求更高性能、更大效能的光学应用提供了前所未有的可能性。
思锐智能所属的Beneq倍耐克公司，在长达十数年的历史中，专注于打造适用于光学薄膜工业化生产的原子层沉积系统，被誉为ALD技术及设备在光学期领域的先驱者与奠基人，积累了深厚的技术积淀和实践经验。
该公司精心设计并制造出一系列尖端产品，包括P400A、P800、P1500以及C2R系列的原子层沉积装置。这些设备成功突破了传统同类技术在沉积速率缓慢、不兼容大尺寸应用及难以实现大规模生产的瓶颈问题，确保了能够全面满足现代光学产业中对于规模化、高标准镀膜产品生产的需求。
图四：比较分析了Beneq P系列原子层沉积设备的卓越性能特征。
思锐智能中国的领军人物刘春亮指出，Beneq P系列ALD装置已臻于技术完备和工艺成熟的境地，其优势尤为突出，尤其适于批量生产，比如一次性处理数百乃至数千片产品，展现出显著的产能效益。该系列产品均配备了高容量反应器，堪称从研发到规模化工业生产的理想选择。
P系列设备还提供定制化反应腔选项，以满足不同基底的需求；同时，易于更换的反应腔设计最大程度上消除了因维护而引起的生产线停机时间，确保了生产流程的连续性和效率。
在本次CIOE展会中，Beneq公司展出了其最新研发的创新性C2R旋转等离子体增强型原子层沉积技术，这一突破标志着将空间ALD技术与等离子体处理技术有机融合的新篇章。此系列，命名为C2R，专为加速原子层沉积过程而设计，旨在达到媲美传统物理气相沉积工艺的效率水平。Beneq的这一壮举不仅在行业内首开先河，更是独树一帜的存在，其开创性贡献对ALD技术的发展具有里程碑式的意义。
图五展示的是Beneq C2R设备为客户提供的一系列卓越技术特性。
相比P系列设备，C2R系统的批次生产规模相对较精简——以8英寸晶圆为例，每次产出仅7片，然而其出色的沉积速率令人印象深刻：每小时能均匀覆盖几微米的膜层，性能与传统的PVD技术相抗衡，这一特性大大超出了众多客户的预期。刘春亮指出，C2R系统和P系列各自拥有独特的优势，并且二者相互补充，共同满足了不同客户群体的需求，正是这一点使得其在本次展览会上成为了瞩目的焦点，吸引了一大批寻求合作与深入了解的访客。
根据刘春亮的阐述，在中国的客户实践中，思锐智能的ALD设备在夜视产品制造领域展现出卓越的应用成效。通过在大面积、深宽比较高的微通道板中精准沉积保形性极高的电阻和发射层薄膜材料，该技术显著提升了微通道板的二次电子产额，进而强化了产品的性能表现。
具体而言，在微通道板内部沉积高能效的电子发射层，并结合ALD薄膜在微观孔隙处沉积薄氧化物材料。这些氧化物材质因其优异的光子倍增特性，能够在弱光条件下转化为强光，实现光学放大功能。这一创新解决方案不仅为多家国内外知名夜视产品制造企业带来了量质并举的进步，在经济效益上也实现了显著提升。
刘春亮强调，思锐智能的ALD设备在这一领域内的应用，有效地帮助企业在产品质量和经济回报方面取得了卓越成就。
图像六展示的是思锐智能公司在中国区的销售总监，姓名为刘春亮。
作为技术领域内的资深专家与创新引领者，思锐智能专注于为工业视觉系统的先驱企业供应尖端的ALD层沉积装置，其主要用于在曲面结构如玻璃圆柱体上精确沉积微米级厚度的低折射率或高折射率光学材料堆。这一技术主要应用于生产近红外滤光片，确保了光学系统制造商能够精准地操作并优化产品的性能。
在光学系统的制造领域中，思锐智能的专业设备尤其擅长为衍射光栅填充高折射材料，从而产生平整且高质量的光栅结构，并保持其洁净度。此外，在对相机透镜制造方面，公司亦以其ALD设备赢得广泛赞誉，特别是针对小曲面透镜上均匀沉积减反增透薄膜材料的需求。
思锐智能的技术应用远不止于此，它在硅基微显示薄膜封装、LED DBR反射器的生产以及半导体关键部件保护性镀膜等多个高科技领域发挥着不可或缺的作用。通过不断的技术创新与优化，思锐智能致力于为各行业提供更加精准、高效的解决方案，推动科技进步并引领未来产业发展。
近期，行业内备受瞩目的A字头领军企业在筹划其未来AR与VR终端产品时，不约而同地将焦点锁定于Micro-OLED作为核心组件。这一抉择背后的关键支撑点在于，业界普遍认识到，要在增强现实和虚拟现实中实现视觉体验的质变飞跃，ALD设备的集成势在必行。目前看来，ALD技术已成为构筑Micro-OLED显示屏品质与性能不可或缺的一环，其对于提升显示效果、优化光学性能的作用已被广泛认同并实践于生产流程之中。这一趋势无疑预示着未来在微显示领域中，ALD工艺将扮演着核心角色，为Micro-OLED产品赋予更卓越的视觉体验和技术创新。
思锐智能公司的常务副总陈祥龙阐述了原子层沉积技术在Micro-OLED蒸镀工艺中的应用及其核心优势。当发光材料完成蒸发之后，ALD被用于制备薄膜封层，这充分展现了该技术的最大亮点——生成密度极高、防护性能优异的薄膜。在这一过程中，ALD能够有效隔绝水分子与氧气，从而极大地延长了OLED显示屏的使用寿命。
图7：思锐智能的副董事长，陈祥龙先生，展现了其卓绝的领导才能与深入的行业见解。
思锐智能在Micro-OLED领域独占鳌头，其市场份额几乎达到了惊人的九成，堪称该行业的先驱与领导者。公司自全球研发初期便与领先者紧密合作，提供ALD设备，从理论探索到实际生产阶段，全程深度参与并贡献技术，确保了项目的顺利推进与成功实施。
在中国市场，思锐智能同样展现其卓越的影响力，携手上海大学显示器研发中心、华南理工、广州新世界等企业机构，共同推动封装技术的发展。在福州大学等前沿科研阵地，思锐智能ALD设备的身影无处不在，不仅助力早期研发阶段的技术突破，亦确保了从实验室成果到工业生产的无缝衔接与高效转化。
陈祥龙自豪地分享了思锐智能的这一系列成就，充分展示了公司对Micro-OLED行业的深刻理解、技术实力以及全链条服务的独特优势。
自然地拓展与优化思锐智能的ALD技术平台，我们旨在超越既定领域，将服务范畴扩展至包含前端光学组件及末端半导体设备在内的光电体系全链条，致力于塑造一个集尖端技术研发、集成方案提供与定制化服务于一体的一站式供应商。此举不仅能满足客户对于精密光学元件和高效能半导体器件的多样化需求，同时还能推动整个行业在技术创新和解决方案整合上的新高度。通过这一系统级ALD解决方案的构建，我们旨在实现从研发至应用的无缝衔接，为客户提供全方位、个性化的技术支持与优化策略，从而显著提升产品性能与市场竞争力。
思锐智能采取积极战略，致力于全方位的技术本土化部署，在中国境内精心组建了卓著的研发与技术支持团队。公司在上海、青岛两地设立了先进的半导体实验室，作为装备制造领域的领军企业，思锐智能旨在通过本地化的技术精英和设施，为区域内的客户提供超越单一设备供应的全面服务支持，涵盖从概念验证到中试实验阶段乃至最终提供全套交钥匙解决方案的一体化研发服务体验。
陈祥龙先生坦诚地表示，他们正致力于通过强化本土化技术能力，以增强与客户的紧密联系。同时，他寄望将芬兰全资子公司Beneq在近四十年间累积的专业工艺知识和经验，惠及中国地区的客户群体。
